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27.06.2006 - AMTC maskiert AMD
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ABBILD ist ein Gemeinschaftsprojekt von AMTC und dem Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF). Das Projekt wurde im Oktober 2003 ins Leben gerufen, um neuartige Masken- und Abbildungsmethoden für die nächste Generation von Halbleiterchips zu entwickeln. Etwa 20 Partner aus Industrie und Forschung arbeiten unter Koordination von AMTC eng zusammen. Durch diese Zusammenarbeit konnte u.a. AMD mit Masken für die 65-nm-Technologie beliefert werden.
Dr. Hans Deppe, Geschäftsführer von AMD in Dresden: "AMD plant, in der zweiten Jahreshälfte 2006 erste Produkte in 65-nm-Technologie auszuliefern. Die Qualität der Maskensätze und ihre pünktliche Lieferung sind bei diesem Vorhaben entscheidend. Die fruchtbare Zusammenarbeit mit dem AMTC ist ein ganz wichtiges Element in der Verwirklichung unserer ehrgeizigen Ziele."
"Bereits heute ist die Region Dresden dank einer strategischen Forschungspolitik der größte europäische Elektronikstandort", so Bundesforschungsministerin Annette Schavan. Bei AMTC fließen die Forschungsergebnisse z. B. direkt in die Produktion ein, umgekehrt werden Produktionserfordernisse von der Forschung aufgegriffen.
AMTC-Geschäftsführer Mathias Kamolz über die Zusammenarbeit in Dresden: "Ohne solche Projekte, in denen gemeinsam mit Partnern von Bund, Land, Forschungsinstituten, Kunden und Lieferanten Hand in Hand gearbeitet wird, wären solche bahnbrechenden technologischen Entwicklungen in Deutschland nicht realisierbar".
Neben AMD wird auch Infineon als Hersteller von Speicherelementen die Masken nutzen. Die Toppan Photomasks Germany übernimmt nach endgültiger Fertigungsreife die Volumenfertigung für die Technologie.
Das Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG ist ein Joint Venture von Advanced Micro Devices, Inc., Infineon Technologies AG und Toppan Photomasks, Inc.. Die drei Partner sind an dem Unternehmen zu gleichen Teilen beteiligt. Mit der Gründung des AMTC ist ein nach eigenen Angaben weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und Pilotproduktion von hochentwickelten Masken für die Photolithographie entstanden.
(27.06.2006 / Quelle: saxxess.com / AMTC / Bild: AMTC)
