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23.01.2006 - EMLC 2006 unter Mitwirkung von Silicon Saxony
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Die Konferenz bietet Entwicklern, Nutzern und Anbietern die Möglichkeit, neue Entwicklungen und Entwicklungsergebnisse kennenzulernen. Internationale Fachleute können Ihre Erfahrungen austauschen. Ziel der dreitägigen Konferenz ist, Forschung und Wirtschaft im Bereich der Maskentechnologie und angrenzenden Technologien zusammenzuführen.
Organisiert wird die European Mask and Lithography Conference von der GMM unter Mitwirkung von SEMI-Europe, SPIE, BACUS, PMJ, AMD Saxony, AMTC, Infineon, Silicon Saxony und UBC Microelectronics. Die GMM ist eine Fachgesellschaft vom Verband der Elektrotechnik, Elektronik und Informationstechnik (VDE) sowie des Vereins Deutscher Ingenieure e.V. (VDI).
Der Silicon Saxony e. V. in Dresden verbindet 177 Unternehmen mit rund 17.000 Mitarbeitern und einem Jahresumsatz von rund 2,5 Milliarden Euro. Allein im Jahr 2004 wurden hier mindestens 1.000 Arbeitsplätze geschaffen.
Die von der GMM betreuten Technologiegebiete Mikroelektronik, Feinwerktechnik und Mikrosystem- und Nanotechnologie überschneiden, ergänzen und bedingen sich mehr und mehr in den verschiedensten Anwendungsgebieten. In der Feinwerktechnik werden Elemente der Mechanik, Optik und Elektrotechnik zur Lösung ihrer Aufgaben genutzt. Die Technologieentwicklung der Mikroelektronik mit der Möglichkeit, auch mikromechanische und mikrooptische Bauelemente herzustellen und miteinander zu verbinden, hat dazu geführt, dass Mikroelektronik, Feinwerktechnik, Mikromechanik und schließlich Mikrosystem- und Nanotechnik zunehmend zusammenwachsen. Die GMM ist die Plattform für die auf diesen Gebieten und den zugehörigen Anwendungsfeldern tätigen Ingenieure und Naturwissenschaftler.
(23.01.2006 / Quelle: saxxess.com / Silicon Saxony / Bild: Silicon Saxony)



