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14.01.2005 - Neue Technologiegeneration bei AMTC in der Entwicklung

Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden-Rähnitz geht auf 500 Quadratmeter neuer Reinraumfläche eine neue Technologiegeneration an. Die Ingenieure haben begonnen, Belichtungsvorlagen für 70 Nanometer-Chips zu entwickeln.

Bisher wurden Prozessoren und Speicher mit 110 oder 90 Nanometer Strukturbreite gefertigt. Die bislang verwendete Technologie für die Chipmasken der vorherigen Generation übergab das Forschungszentrum an das Du Pont-Werk in Dresden, das damit die Serienproduktion realisiert.

Mit der Umstellung auf die neue Technologie zieht AMTC hinter dem Marktführer Intel nach. Intel zeigte bereits beim International Electron Devices Meeting (IEDM) der Ingenieursvereinigung IEEE in San Francisco vom 13. bis 15. Dezember 2004 seinen Fertigungsprozess für DRAMs mit 70 Nanometern Strukturbreite. Das AMTC ist ein Joint Venture von Advanced Micro Devices (AMD), Infineon Technologies AG und DuPont Photomask.


Im Oktober 2003 wurde mit AMTC ein weltweit führendes Zentrum für die Erforschung und Entwicklung sowie für die Pilotproduktion von Photomasken neuester Technologiegenerationen eröffnet. Im Maskenzentrum werden lithographische Masken der nächsten Generation entwickelt und in Musterstückzahlen hergestellt. Die Investitionen der Partner sollen bis 2008 rund 360 Millionen Euro betragen. In Dresden werden zur Zeit ca. 150 Mitarbeiter beschäftigt.

(14.01.2005 / Quelle: AMTC GmbH & Co. KG / Bild: AMTC GmbH & Co. KG)